Aliran ultrasonik aliran berterusan (CFUR) mengintegrasikan kesan peronggaan ultrasound dengan kimia aliran berterusan, dengan ketara meningkatkan kecekapan dan kawalan sintesis nanomaterial, penyebaran, dan pengubahsuaian permukaan .
- Kuasa ultrasonik berkisar dari 50-3000 w
- Kekerapan: 20 kHz
- Suhu: -40 hingga 200 darjah (mandi beredar luaran)
- Tekanan: 0.1-10 bar (dikawal oleh injap tekanan belakang)
Kelebihan menggunakan reaktor ultrasonik yang berterusan untuk memproses penyelesaian nano
Kawalan tepat saiz nanopartikel (parameter utama: kuasa ultrasonik, kekerapan, masa)
- Ultrasonic Power (50-2000 w):
Kuasa rendah (50-300 w): Sesuai untuk penyebaran lembut (seperti pengelupasan graphene), mengelakkan pemecahan berlebihan .
Kuasa tinggi (500-2000 w): Ia dapat mengurangkan saiz zarah (seperti menghancurkan sio ₂ berukuran mikron ke 50-100 nm) .
- Pemilihan kekerapan (20 kHz - 1 MHz):
Kekerapan rendah (20-50 kHz): Gelembung peronggaan agak besar, yang sesuai untuk pemecahan zarah besar (seperti pemisahan berkas karbon nanotube) .
Frekuensi Tinggi (400 kHz - 1 MHz): Menjana gelembung peronggaan kecil, sesuai untuk nanoemulsions halus (seperti penyediaan liposom) .
- Masa pemprosesan (1-60 minit):
Tempoh masa yang singkat (1-10 minit) dapat menghalang pengisaran yang lebih tinggi, sementara jangka masa yang panjang (30-60 minit) dapat meningkatkan kestabilan penyebaran .
Kes Perindustrian:
Slurry Nano-Seramik: Rawatan ultrasonik berterusan pada 20 kHz dan 10 kW diterima pakai, dengan kapasiti pengeluaran 200 L/j dan keseragaman zarah (D90<1 μm).
Penggantungan racun perosak Nano: Penyebaran ultrasonik mengurangkan saiz zarah bahan aktif dari 5 μm hingga 200 nm, dan meningkatkan bioavailabiliti sebanyak 30%.
| Model | Gk -10 l | Gk -20 l | Gkf -50 l | Gk -100 l | Gk -200 l |
| Kelantangan | 10L | 20L | 50L | 100L | 200L |
| Jackey Volume | ≈2L | ≈5L | ≈15L | ≈20L | ≈40L |
Butiran peralatan
